Invention Publication
CN101506645A 具有改进反馈回路的腔增强型光声痕量气体探测器
失效 - 权利终止
- Patent Title: 具有改进反馈回路的腔增强型光声痕量气体探测器
- Patent Title (English): Cavity-enhanced photo acoustic trace gas detector with improved feedback loop
-
Application No.: CN200780031773.4Application Date: 2007-08-30
-
Publication No.: CN101506645APublication Date: 2009-08-12
- Inventor: J·卡尔克曼 , M·M·J·W·范赫佩恩 , H·W·范克斯特伦
- Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
- Applicant Address: 荷兰艾恩德霍芬
- Assignee: 皇家飞利浦电子股份有限公司
- Current Assignee: 皇家飞利浦电子股份有限公司
- Current Assignee Address: 荷兰艾恩德霍芬
- Agency: 永新专利商标代理有限公司
- Agent 韩宏
- Priority: 06119851.1 2006.08.31 EP
- International Application: PCT/IB2007/053495 2007.08.30
- International Announcement: WO2008/026183 EN 2008.03.06
- Date entered country: 2009-02-26
- Main IPC: G01N21/17
- IPC: G01N21/17

Abstract:
本发明提供了一种用于检测气体混合物中痕量气体的浓度的光声痕量气体探测器(100)。所述探测器(100)包括用于生成光束的光源(101)和用于以斩波频率将所述光束调制为一系列光脉冲以在所述气体混合物中产生声波的光调制器(103)。声波的振幅是痕量气体浓度的量度。探测器(100)还包括具有气体混合物的光腔(104a,104b)。光腔(104a,104b)放大光脉冲的光强度。换能器(109)将声波转换为电信号。反馈回路(110,111,113,114)调整光腔(104a,104b)的长度和光束的波长的比率以在所述光腔(104a,104b)中放大光脉冲的光强度。反馈回路(110,111,113,114)包括用于以调制频率来调制比率的比率调制装置(113,114)、用于测量光脉冲的光强度的光探测器(110)和被耦合到所述光探测(100)和比率调制装置(113,114)的调节装置(111),用于依据所测量的光强度来调节所述比率的平均值。所述斩波频率高于调制频率。
Public/Granted literature
- CN101506645B 具有改进反馈回路的腔增强型光声痕量气体探测器 Public/Granted day:2011-12-28
Information query