蚀刻剂和使用该蚀刻剂制造显示设备的方法
Abstract:
本发明公开了一种蚀刻剂和使用该蚀刻剂制造显示设备的方法。一种根据本发明的示例性实施方式的蚀刻剂包括:重量百分比含量为约0.5%至约20%的过硫酸盐;重量百分比含量为约0.01%至约2%的氟化合物;重量百分比含量为约1%至约10%的无机酸;重量百分比含量为约0.5%至约5%的环胺化合物;重量百分比含量为约0.1%至约5%的氯化合物;重量百分比含量为约0.05%至约3%的铜盐;重量百分比含量为约0.1%至约10%的有机酸或有机酸盐;和水。
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