Invention Grant
- Patent Title: 蚀刻剂和使用该蚀刻剂制造显示设备的方法
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Application No.: CN201210359316.0Application Date: 2012-09-24
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Publication No.: CN103668207BPublication Date: 2018-04-06
- Inventor: 李昔准 , 权五柄 , 刘仁浩 , 张尚勋 , 朴英哲 , 李喻珍 , 李俊雨 , 金相泰 , 秦荣晙
- Applicant: 东友精细化工有限公司
- Applicant Address: 韩国全罗北道益山市
- Assignee: 东友精细化工有限公司
- Current Assignee: 东友精细化工有限公司
- Current Assignee Address: 韩国全罗北道益山市
- Agency: 北京同达信恒知识产权代理有限公司
- Agent 李中奎
- Main IPC: C23F1/18
- IPC: C23F1/18 ; C23F1/26 ; H01L21/3213

Abstract:
本发明公开了一种蚀刻剂和使用该蚀刻剂制造显示设备的方法。一种根据本发明的示例性实施方式的蚀刻剂包括:重量百分比含量为约0.5%至约20%的过硫酸盐;重量百分比含量为约0.01%至约2%的氟化合物;重量百分比含量为约1%至约10%的无机酸;重量百分比含量为约0.5%至约5%的环胺化合物;重量百分比含量为约0.1%至约5%的氯化合物;重量百分比含量为约0.05%至约3%的铜盐;重量百分比含量为约0.1%至约10%的有机酸或有机酸盐;和水。
Public/Granted literature
- CN103668207A 蚀刻剂和使用该蚀刻剂制造显示设备的方法 Public/Granted day:2014-03-26
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