Invention Grant
- Patent Title: 共聚焦计测装置
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Application No.: CN201310226389.7Application Date: 2013-06-07
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Publication No.: CN103673887BPublication Date: 2017-07-18
- Inventor: 松井优贵 , 藤原直树 , 菅孝博
- Applicant: 欧姆龙株式会社
- Applicant Address: 日本京都府京都市
- Assignee: 欧姆龙株式会社
- Current Assignee: 欧姆龙株式会社
- Current Assignee Address: 日本京都府京都市
- Agency: 隆天知识产权代理有限公司
- Agent 金相允; 向勇
- Priority: 2012-202343 20120914 JP
- Main IPC: G01B11/02
- IPC: G01B11/02

Abstract:
本发明提供一种能够达到高计测精度的共聚焦计测装置。共聚焦计测装置(101)具有:光源(21),其出射多个波长的光;衍射透镜(1),其使来自光源(21)的光产生色像差;物镜(2),其将产生了色像差的光聚集到计测对象物(200);针孔(光纤(11)),其使聚焦的光通过;测定部(光谱仪(23)及摄像元件(24)),其针对不同的波长测定光的强度。衍射透镜(1)具有形成有用于产生色像差的衍射图案的衍射面(1a)和位于衍射面(1a)的相反一侧的平面(1b)。在衍射透镜(1)的平面(1b)配置有以衍射透镜(1)的光轴(X)为中心的圆形的遮光膜(4)。
Public/Granted literature
- CN103673887A 共聚焦计测装置 Public/Granted day:2014-03-26
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