Invention Publication
- Patent Title: 掩膜板、柱状隔垫物的制作方法和基板的制作方法
- Patent Title (English): Mask plate, columnar spacer manufacture method and substrate manufacture method
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Application No.: CN201410539439.1Application Date: 2014-10-13
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Publication No.: CN104267576APublication Date: 2015-01-07
- Inventor: 卢兵 , 罗锋
- Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
- Applicant Address: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- Assignee: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- Current Assignee: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- Current Assignee Address: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- Agency: 北京中博世达专利商标代理有限公司
- Agent 申健
- Main IPC: G03F1/68
- IPC: G03F1/68 ; G02F1/1339 ; G02F1/1333

Abstract:
本发明实施例公开了一种掩膜板、柱状隔垫物的制作方法和基板的制作方法,涉及显示技术领域,可以同时兼顾主、副柱状隔垫物之间的段差和副柱状隔垫物的尺寸。该掩膜板包括第一透光区域、第二透光区域、第三透光区域和第四透光区域;第一、第三透光区域的宽度均为d1,第二、第四透光区域的宽度均为d2,相邻两个第一透光区域之间依次设置有一个第二透光区域、一个第三透光区域和一个第四透光区域;第二透光区域与第一透光区域之间、第四透光区域与第一透光区域之间的遮光区域的宽度均为d3,第三透光区域与第二透光区域之间、第四透光区域与第三透光区域之间的遮光区域的宽度均为d4,其中d4=1/2(d1+d2+4d3)。
Public/Granted literature
- CN104267576B 掩膜板、柱状隔垫物的制作方法和基板的制作方法 Public/Granted day:2019-10-11
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