Invention Grant
CN104570601B 光致酸生成剂、光刻胶、以及形成电子器件的方法
失效 - 权利终止
- Patent Title: 光致酸生成剂、光刻胶、以及形成电子器件的方法
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Application No.: CN201410577026.2Application Date: 2014-10-24
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Publication No.: CN104570601BPublication Date: 2019-08-13
- Inventor: E·阿恰达 , I·考尔 , 刘骢 , 李明琦 , C-B·徐
- Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
- Applicant Address: 美国马萨诸塞州
- Assignee: 罗门哈斯电子材料有限公司
- Current Assignee: 罗门哈斯电子材料有限公司
- Current Assignee Address: 美国马萨诸塞州
- Agency: 上海专利商标事务所有限公司
- Agent 江磊
- Priority: 14/063,148 2013.10.25 US
- Main IPC: G03F7/004
- IPC: G03F7/004 ; G03F7/039 ; C07D317/24 ; C07C303/32 ; C07C309/12 ; C07C309/17
Abstract:
一种具有通式(1)的光致酸生成剂化合物：其中a,b,c,d,e,x,L1,L2,L3,L4,R1,R2,X和Z‑如文中所定义。所述光致酸生成剂化合物在通常用于配制光刻胶组合物的溶剂和负性色调显影剂中具有良好的溶解性。本文还描述了一种包括光致酸生成剂化合物的光刻胶组合物，包括所述光刻胶组合物的经涂覆的基材，以及使用该光刻胶组合物形成器件的方法。
Public/Granted literature
- CN104570601A 光致酸生成剂、光刻胶、涂覆的基材以及形成电子器件的方法 Public/Granted day:2015-04-29
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IPC分类:
