Invention Publication
- Patent Title: 一种祛痘抗敏组合物及其制备方法和用途
- Patent Title (English): Acne-eliminating and anti-allergy composition, preparation method and application thereof
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Application No.: CN201410068983.2Application Date: 2014-02-27
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Publication No.: CN104825674APublication Date: 2015-08-12
- Inventor: 赖霓
- Applicant: 成都岐草堂生物科技有限责任公司
- Applicant Address: 四川省成都市青羊区家园路32号2栋11层40号
- Assignee: 成都岐草堂生物科技有限责任公司
- Current Assignee: 成都岐草堂生物科技有限责任公司
- Current Assignee Address: 四川省成都市青羊区家园路32号2栋11层40号
- Agency: 成都高远知识产权代理事务所
- Agent 李高峡; 杜朗宇
- Main IPC: A61K36/86
- IPC: A61K36/86 ; A61K8/97 ; A61P37/08 ; A61P17/10 ; A61Q19/00

Abstract:
本发明提供了一种祛痘抗敏组合物,它是由如下重量配比的原料药制备而成的外用制剂:蒲公英27-37份、丹参15-35份、紫荆皮20-47份、紫花地丁20-47份。本发明组合物,对抗敏祛痘活性良好,修复角质层作用强、持续时间长,能够有效的消除皮肤过敏,同时,该组合物将各中药材以辨证论治为基础,君臣佐使理论为指导合理配伍,各中药材功效最大化最优化,达到了更为显著的抗敏祛痘、修复角质层活性,提供了一种能够抗敏祛痘、修复角质层的新选择。
Public/Granted literature
- CN104825674B 一种祛痘抗敏组合物及其制备方法和用途 Public/Granted day:2019-10-11
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