Invention Grant
- Patent Title: 半导体器件及其操作方法
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Application No.: CN201410344847.1Application Date: 2014-07-18
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Publication No.: CN104835527BPublication Date: 2019-10-11
- Inventor: 李煕烈
- Applicant: 爱思开海力士有限公司
- Applicant Address: 韩国京畿道
- Assignee: 爱思开海力士有限公司
- Current Assignee: 爱思开海力士有限公司
- Current Assignee Address: 韩国京畿道
- Agency: 北京弘权知识产权代理事务所
- Agent 俞波; 许伟群
- Priority: 10-2014-0015026 2014.02.10 KR
- Main IPC: G11C16/14
- IPC: G11C16/14 ; G11C16/06

Abstract:
一种半导体器件的操作方法包括重复擦除循环和重复编程循环的步骤,所述擦除循环可以通过将擦除电压施加至选中的存储块以及执行擦除验证以判断选中的存储块中的存储器单元的阈值电压是否小于或等于目标电平来降低选中的存储块中的存储器单元的阈值电压,其中擦除电压被增加了电压差,其中电压差在连续应用的两个或更多个擦除循环之间增加。所述编程循环包括将编程电压施加至选中的字线以增加与选中的字线电耦接的存储器单元的阈值电压以及执行编程验证以判断阈值电压是否大于或等于目标电平,其中编程电压被增加了电压差,其中电压差在连续施加的两个或更多个编程电压之间增加。
Public/Granted literature
- CN104835527A 半导体器件及其操作方法 Public/Granted day:2015-08-12
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