Invention Grant
- Patent Title: 一种掩膜版雾化控制方法及装置
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Application No.: CN201410216694.2Application Date: 2014-05-21
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Publication No.: CN105093814BPublication Date: 2019-08-13
- Inventor: 徐卿栋 , 卢子轩
- Applicant: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
- Applicant Address: 上海市浦东新区张江路18号
- Assignee: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
- Current Assignee: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
- Current Assignee Address: 上海市浦东新区张江路18号
- Agency: 上海光华专利事务所
- Agent 李仪萍
- Main IPC: G03F1/44
- IPC: G03F1/44 ; G03F1/72 ; G03F7/20

Abstract:
本发明提供一种掩膜版雾化控制方法及装置,所述控制方法包括步骤:1)从待扫描测试的掩膜版中选择出在预设时间内使用次数大于或等于预设次数的第一数量掩膜版;2)依据公式R=r1*r2*r3*r4*r5计算出所述第一数量掩膜版中各掩膜版的雾化风险值R,其中,r1为掩膜版的曝光总剂量风险值,r2为掩膜版的使用年限风险值,r3为掩膜版的清洗次数风险值,r4为掩膜版的存储方式风险值,r5为掩膜版的制程线宽风险值,3)依据雾化风险值从高到低依次对全部或部分掩膜版进行扫描测试,并根据扫描测试的结果确定实际被雾化的掩膜版。本发明能有效的节约时间和成本,且可以高效率的实现对掩膜版的雾化控制,有利于器件生产的稳定性。本发明方案简单,适用于工业检测。
Public/Granted literature
- CN105093814A 一种掩膜版雾化控制方法及装置 Public/Granted day:2015-11-25
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