Invention Grant
CN105842999B 一种显影的方法及装置
失效 - 权利终止
- Patent Title: 一种显影的方法及装置
-
Application No.: CN201610390340.9Application Date: 2016-06-02
-
Publication No.: CN105842999BPublication Date: 2019-10-11
- Inventor: 查长军 , 黎敏 , 吴洪江
- Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 重庆京东方光电科技有限公司
- Applicant Address: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- Assignee: 京东方科技集团股份有限公司,重庆京东方光电科技有限公司
- Current Assignee: 京东方科技集团股份有限公司,重庆京东方光电科技有限公司
- Current Assignee Address: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- Agency: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司
- Agent 滕一斌
- Main IPC: G03F7/30
- IPC: G03F7/30

Abstract:
本发明公开了一种显影的方法及装置,属于显示领域。所述方法包括:获取第一位置的曝光间距变化量,所述第一位置是第二位置在掩膜板上的投射位置,所述第二位置是基板上的一位置;根据所述曝光间距变化量,确定向所述第二位置喷洒显影液的流量;根据所述流量,向所述第二位置喷洒显影液,所述显影液用于刻蚀位于所述第二位置处的有机材料。所述装置包括:获取模块、确定模块和喷洒模块。本发明能够均一各图形线宽。
Public/Granted literature
- CN105842999A 一种显影的方法及装置 Public/Granted day:2016-08-10
Information query
IPC分类: