Invention Grant
- Patent Title: 光/光学辐射的处理装置、设计这种装置的方法和系统
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Application No.: CN201580006509.XApplication Date: 2015-01-15
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Publication No.: CN106030372BPublication Date: 2019-10-11
- Inventor: 让-弗朗索瓦·莫里聚尔 , 纪尧姆·拉布鲁瓦勒 , 尼古拉斯·特雷普斯
- Applicant: 卡伊拉布斯公司
- Applicant Address: 法国雷恩
- Assignee: 卡伊拉布斯公司
- Current Assignee: 卡伊拉布斯公司
- Current Assignee Address: 法国雷恩
- Agency: 北京柏杉松知识产权代理事务所
- Agent 谢攀; 刘继富
- Priority: 1450715 2014.01.30 FR
- International Application: PCT/EP2015/050711 2015.01.15
- International Announcement: WO2015/113831 FR 2015.08.06
- Date entered country: 2016-07-29
- Main IPC: G02B26/06
- IPC: G02B26/06 ; G02B27/00

Abstract:
本发明涉及用于处理光辐射(108)的装置(100),装置(100)包括限定多通过腔体(106)的至少两个光学反射元件(102,104),使得所述光学元件(102,104)中的至少一个在至少两个不同的反射位置处反射所述光辐射(108)至少两次,其特征在于,所述装置包括至少一个被称为校正元件的元件,所述校正元件具有至少一个被称为校正位置的位置,所述校正位置实现所述光学辐射的反射或透射,并且其表面是不规则的,使得所述校正位置(116)的空间相位轮廓对于所述校正位置(116)的多个不同的反射或透射点具有不同的相移。本发明还涉及用于设计这样的装置(100)的方法和系统。
Public/Granted literature
- CN106030372A 光/光学辐射的处理装置、设计这种装置的方法和系统 Public/Granted day:2016-10-12
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