Invention Grant
- Patent Title: 光学投影阵列曝光系统
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Application No.: CN201610577265.7Application Date: 2013-06-04
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Publication No.: CN106168738BPublication Date: 2019-08-13
- Inventor: 大卫·马克尔 , 托马斯·莱迪格 , 杰弗瑞·卡斯基 , 陈正方
- Applicant: 应用材料公司
- Applicant Address: 美国加利福尼亚州
- Assignee: 应用材料公司
- Current Assignee: 应用材料公司
- Current Assignee Address: 美国加利福尼亚州
- Agency: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
- Agent 孙洋
- Priority: 61/655,475 2012.06.04 US
- Main IPC: G03F7/20
- IPC: G03F7/20

Abstract:
本公开涉及一种光学投影阵列曝光系统。公开了一种空间光调制器成像系统。该系统包括照明模块、投影模块及照明‑投影光束分离器,该照明模块被配置为提供照明光,其中,该照明光呈现由该空间光调制器成像系统成像的数据图案;该投影模块被配置为将该照明光投射至基板;该照明投影光束分离器耦接于该照明模块与该投影模块之间;其中,该照明一投影光束分离器被配置为接收沿照明光轴的该照明光,并将所接收的照明光沿投影光轴传送至该投影模块,其中该照明光轴与该投影光轴实质上彼此平行。
Public/Granted literature
- CN106168738A 光学投影阵列曝光系统 Public/Granted day:2016-11-30
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IPC分类: