Invention Grant
- Patent Title: 使用热退火设备进行快速热退火工艺的方法
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Application No.: CN201610880566.7Application Date: 2016-10-08
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Publication No.: CN106548961BPublication Date: 2019-10-11
- Inventor: 肖东辉
- Applicant: 武汉华星光电技术有限公司
- Applicant Address: 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
- Assignee: 武汉华星光电技术有限公司
- Current Assignee: 武汉华星光电技术有限公司
- Current Assignee Address: 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
- Agency: 深圳市德力知识产权代理事务所
- Agent 林才桂
- Main IPC: H01L21/67
- IPC: H01L21/67

Abstract:
本发明提供一种使用热退火设备进行快速热退火工艺的方法,对热退火设备在空闲及工作状态下分别按照第一、第二参数进行设定,并将热退火设备的数个加热腔中的至少前1个加热腔设为区别设定加热腔,所述第一参数中对区别设定加热腔的设定温度低于所述第二参数中对该区别设定加热腔的设定温度,从而使得热退火设备在由空闲状态向工作状态转换时,减少工作状态初期首先放入热退火设备中的基板与工作状态稳定时放入的基板间温度的差异,进而减少TTP变异的发生,降低产品报废的风险,提升产品良率,增加产品经济价值。
Public/Granted literature
- CN106548961A 使用热退火设备进行快速热退火工艺的方法 Public/Granted day:2017-03-29
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