Invention Grant
- Patent Title: 彩膜基板及其制作方法
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Application No.: CN201710193364.XApplication Date: 2017-03-28
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Publication No.: CN106842687BPublication Date: 2019-10-11
- Inventor: 赵朝军
- Applicant: 武汉华星光电技术有限公司
- Applicant Address: 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
- Assignee: 武汉华星光电技术有限公司
- Current Assignee: 武汉华星光电技术有限公司
- Current Assignee Address: 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
- Agency: 深圳市德力知识产权代理事务所
- Agent 林才桂
- Main IPC: G02F1/1335
- IPC: G02F1/1335 ; G02F1/1333

Abstract:
本发明提供一种彩膜基板及其制作方法。该彩膜基板包括:基板、设于所述基板上黑色矩阵和色阻层、设于所述黑色矩阵上的至少一个色阻挡墙、设于所述黑色矩阵和色阻层上的有机平坦层,其中所述色阻挡墙形成于所述基板的边框区域的黑色矩阵上,所述有机平坦层的厚度小于所述色阻挡墙的厚度,从而所述有机平坦层制作完成后会在色阻挡墙处自然断开,利用色阻挡墙将边框区域中的有机平坦层与有效显示区域内的有机平坦层分隔开,能够有效防止水汽通过有机平坦层侵入有效显示区域,避免有效显示区域内的元件被水汽腐蚀,提升液晶显示装置尤其是窄边框液晶显示装置的工作稳定性。
Public/Granted literature
- CN106842687A 彩膜基板及其制作方法 Public/Granted day:2017-06-13
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IPC分类: