Invention Grant
- Patent Title: 利用苝酐非共价修饰石墨烯制备形状记忆聚合物的方法
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Application No.: CN201710219363.8Application Date: 2017-04-06
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Publication No.: CN106893059BPublication Date: 2019-10-11
- Inventor: 赵良传 , 徐旭 , 李裕琪 , 成竞祯 , 叶丞东 , 陆绍荣 , 韦春
- Applicant: 桂林理工大学
- Applicant Address: 广西壮族自治区桂林市七星区建干路12号
- Assignee: 桂林理工大学
- Current Assignee: 桂林理工大学
- Current Assignee Address: 广西壮族自治区桂林市七星区建干路12号
- Main IPC: C08G18/10
- IPC: C08G18/10 ; C08G18/42 ; C08G18/73 ; C08G18/38 ; C08G18/66 ; C08K9/04 ; C08K3/04

Abstract:
本发明公开了一种利用苝酐非共价修饰石墨烯制备形状记忆聚合物的方法。将0.02克石墨烯加入到80毫升N‑甲基吡咯烷酮中,超声分散0.5~1h,再加入0.0037克醋酸锌、0.0392克3,4,9,10‑苝四甲酸二酐和0.0242克三羟甲基氨基甲烷,继续超声分散0.5~1h,然后在氮气氛下于180℃反应10~14h,待反应结束后,将反应液倒入无水乙醇中沉析出料,过滤,所得滤出物经真空干燥,即为苝酐非共价修饰石墨烯,然后将苝酐非共价修饰石墨烯与HDI和聚己内酯二元醇进行反应,制得形状记忆聚合物材料。本发明方法操作简单,尤其是苝酐非共价修饰石墨烯的制备过程非常简单,易于推广,并充分利用了苝酐和石墨烯性能上的协同增强效应,使制得的形状记忆聚合物材料具有优异的机械性能、形状记忆性能和热性能。
Public/Granted literature
- CN106893059A 利用苝酐非共价修饰石墨烯制备形状记忆聚合物的方法 Public/Granted day:2017-06-27
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