Invention Publication
- Patent Title: 基于弧形漏场板和肖特基漏极的垂直型功率晶体管
- Patent Title (English): Vertical power transistor based on arc leakage field plate and Schottky drain electrode
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Application No.: CN201710198803.6Application Date: 2017-03-29
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Publication No.: CN106960873APublication Date: 2017-07-18
- Inventor: 毛维 , 边照科 , 郝跃 , 李康 , 张进成 , 陈大政 , 杨凌 , 张鹏
- Applicant: 西安电子科技大学
- Applicant Address: 陕西省西安市太白南路2号
- Assignee: 西安电子科技大学
- Current Assignee: 西安电子科技大学
- Current Assignee Address: 陕西省西安市太白南路2号
- Agency: 陕西电子工业专利中心
- Agent 王品华
- Main IPC: H01L29/778
- IPC: H01L29/778 ; H01L29/40 ; H01L29/47 ; H01L21/335

Abstract:
本发明公开了一种基于弧形漏场板和肖特基漏极的垂直型功率晶体管,其包括:衬底(1)、漂移层(2)、孔径层(3)、阻挡层(4)、沟道层(6)、势垒层(7)和钝化层(12),沟道层和势垒层两侧刻蚀有凹槽(8),两侧凹槽中淀积有源极(9),源极之间的势垒层上淀积有栅极(10),阻挡层之间形成孔径(5),衬底下面淀积有肖特基漏极(11),钝化层(12)包裹除肖特基漏极底部以外的所有区域,钝化层背面两侧刻有弧形台阶(13),弧形台阶处淀积有金属,形成弧形场板(14),该弧形场板与肖特基漏极电气连接,且其下方完全填充保护层(15)。本发明反向击穿电压高、工艺简单、导通电阻小、成品率高,可用于电力电子系统。
Public/Granted literature
- CN106960873B 基于弧形漏场板和肖特基漏极的垂直型功率晶体管 Public/Granted day:2019-08-13
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IPC分类: