Invention Publication
- Patent Title: 半导体单晶提拉装置以及使用其的半导体单晶的再熔融方法
- Patent Title (English): Semiconductor single crystal pulling apparatus and method for remelting semiconductor single crystal using same
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Application No.: CN201580049307.3Application Date: 2015-09-09
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Publication No.: CN107075718APublication Date: 2017-08-18
- Inventor: 增田直树 , 浦野雅彦
- Applicant: 信越半导体株式会社
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 信越半导体株式会社
- Current Assignee: 信越半导体株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 北京路浩知识产权代理有限公司
- Agent 张晶; 谢顺星
- Priority: 2014-197843 20140929 JP
- International Application: PCT/JP2015/004578 2015.09.09
- International Announcement: WO2016/051682 JA 2016.04.07
- Date entered country: 2017-03-14
- Main IPC: C30B15/22
- IPC: C30B15/22

Abstract:
本发明提供一种半导体单晶提拉装置,其具备:对收容熔融液的坩埚进行加热保温的加热器、及一边从所述熔融液提拉一边培育半导体单晶的绳线,所述半导体单晶提拉装置的特征在于,单晶提拉装置具备:再熔融检出装置,其在用绳线使半导体单晶的下端部浸没在熔融液中并再熔融时,根据半导体单晶的重量变化,来检出半导体单晶的下端部的再熔融已经完成;以及,最下端检出装置,其通过在坩埚与绳线之间施加电压,来一边在半导体单晶与熔融液之间施加电压一边用绳线卷绕提起半导体单晶时,根据半导体单晶与熔融液之间变得无电流流动的位置,来检出半导体单晶的最下端。由此,在半导体单晶的再熔融中,为了判断浸没的结晶的熔融的完成,不需要通过目视来确认,能够进行有效的再熔融。
Public/Granted literature
- CN107075718B 半导体单晶的再熔融方法 Public/Granted day:2019-08-13
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