• Patent Title: 含不饱和基团的碱显影性树脂以及阻焊剂用树脂材料
  • Patent Title (English): Unsaturated group-containing alkali developable resin and resin material for solder resists
  • Application No.: CN201680012226.0
    Application Date: 2016-02-09
  • Publication No.: CN107250199A
    Publication Date: 2017-10-13
  • Inventor: 山田骏介浅野优龟山裕史
  • Applicant: DIC株式会社
  • Applicant Address: 日本东京都
  • Assignee: DIC株式会社
  • Current Assignee: DIC株式会社
  • Current Assignee Address: 日本东京都
  • Agency: 北京林达刘知识产权代理事务所
  • Agent 刘新宇; 李茂家
  • Priority: 2015-036639 20150226 JP
  • International Application: PCT/JP2016/053771 2016.02.09
  • International Announcement: WO2016/136455 JA 2016.09.01
  • Date entered country: 2017-08-25
  • Main IPC: C08G59/16
  • IPC: C08G59/16 C08F299/00 G03F7/027
含不饱和基团的碱显影性树脂以及阻焊剂用树脂材料
Abstract:
本发明提供显影性、以及固化物的耐热性和介电特性优异的含不饱和基团的碱显影性树脂、含有其的光固化型碱显影性树脂组合物与其固化物、阻焊剂用树脂材料和抗蚀构件。一种含不饱和基团的碱显影性树脂,其具有以聚环氧化合物(A)、不饱和单羧酸(B)、不饱和单羧酸酐(C)、以及二羧酸酐(D)为必须原料进行反应而得到的分子结构,酸值为50~80mgKOH/g的范围,且羟值为19mgKOH/g以下的范围。
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