Invention Grant
- Patent Title: 低介电常数的聚酰亚胺的制造方法及聚酰亚胺膜暨其应用
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Application No.: CN201610226826.9Application Date: 2016-04-13
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Publication No.: CN107286650BPublication Date: 2021-04-13
- Inventor: 丘建华 , 林佳慧 , 吴俊明 , 黄黎明 , 黎伯谦
- Applicant: 新扬科技股份有限公司
- Applicant Address: 中国台湾高雄市路竹区路科二路8号
- Assignee: 新扬科技股份有限公司
- Current Assignee: 新扬科技股份有限公司
- Current Assignee Address: 中国台湾高雄市路竹区路科二路8号
- Agency: 北京律诚同业知识产权代理有限公司
- Agent 徐金国
- Main IPC: C08L79/08
- IPC: C08L79/08 ; C08L27/18 ; C08G73/10 ; C08J5/18 ; B32B15/08 ; B32B15/20
Abstract:
本发明的方法包括提供含氟高分子分散液(A)和溶于第一溶剂(C)中的芳香族二胺(B)；上述含氟高分子分散液(A)包含含氟高分子(a‑1)、第二溶剂(a‑2)和分散剂(a‑3)；混合含氟高分子分散液(A)与芳香族二胺(B)，以形成第一混合物中；加入芳香族四羧酸二酐(D)于第一混合物中，以形成聚酰胺酸溶液；对聚酰胺酸溶液进行去溶剂步骤和加热步骤，以制得聚酰亚胺。所制得的聚酰亚胺膜具有低介电常数以及低损耗因子。
Public/Granted literature
- CN107286650A 低介电常数的聚酰亚胺的制造方法及聚酰亚胺膜暨其应用 Public/Granted day:2017-10-24
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