Invention Grant
- Patent Title: 一种改善面板外围TITO残留的方法及光罩
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Application No.: CN201711043810.5Application Date: 2017-10-31
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Publication No.: CN107643657BPublication Date: 2019-10-11
- Inventor: 曾霜华
- Applicant: 武汉华星光电技术有限公司
- Applicant Address: 湖北省武汉市武汉东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
- Assignee: 武汉华星光电技术有限公司
- Current Assignee: 衡水恒银企业管理有限公司
- Current Assignee Address: 053099 河北省衡水市桃城区人民路中心街商贸中心D、E座六楼606室
- Agency: 深圳汇智容达专利商标事务所
- Agent 潘中毅; 熊贤卿
- Main IPC: G03F7/20
- IPC: G03F7/20

Abstract:
本发明提供一种光罩,设置于一面板上方;面板上设有平坦层,且平坦层上有多个沟槽,平坦层上方涂抹有一层TITO;光罩设有全透光区、半透光区和不透光区;全透光区分别设置于面板显示区外围所对应沟槽的正上方;半透光区分别设置于面板显示区所对应沟槽的正上方;不透光区分别设置于面板所对应除沟槽之外的每一个地方的正上方。全透光区导引具有预设光强的光线曝光并去除干净显示区外围每一沟槽内的TITO;半透光区虽减弱该预设光强光线的强度,但也曝光并去除干净显示区上每一沟槽内的TITO;而不透光区阻挡该预设光强的光线避免曝光TITO。实施本发明,能够改善在面板外围区有TITO残留的现象,从而提高抗静电等信赖性。
Public/Granted literature
- CN107643657A 一种改善面板外围TITO残留的方法及光罩 Public/Granted day:2018-01-30
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