Invention Grant
- Patent Title: 一种激光触发多级真空开关
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Application No.: CN201711240735.1Application Date: 2017-11-30
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Publication No.: CN107743031BPublication Date: 2019-08-13
- Inventor: 廖敏夫 , 陈占清 , 段雄英 , 黄智慧 , 张豪 , 刘旭
- Applicant: 大连理工大学
- Applicant Address: 辽宁省大连市甘井子区凌工路2号
- Assignee: 大连理工大学
- Current Assignee: 大连理工大学
- Current Assignee Address: 辽宁省大连市甘井子区凌工路2号
- Agency: 大连理工大学专利中心
- Agent 温福雪; 侯明远
- Main IPC: H03K17/54
- IPC: H03K17/54

Abstract:
本发明属于高压大功率脉冲功率开关技术领域,具体涉及一种激光触发多级真空开关。一种激光触发多级真空开关,包括激光触发真空间隙、多级自击穿真空间隙和触发系统;多级自击穿真空间隙通过紧固连接件固定在激光触发真空间隙的上端,均压环套装于上绝缘外壳外部;本发明采用激光触发真空间隙和多级自击穿真空间隙串联技术,二者相互配合实现激光触发多级真空开关在高压、高重频、大功率脉冲功率系统中的应用;采用多路激光同时轰击触发靶材,增大激光对靶材的作用面积,产生更多初始等离子体,进一步提升激光触发真空开关的导通性能,采用激光触发多级真空开关,避免长期维护所需的复杂工艺和高额成本。
Public/Granted literature
- CN107743031A 一种激光触发多级真空开关 Public/Granted day:2018-02-27
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