Invention Grant
- Patent Title: 处理装置和处理方法
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Application No.: CN201810141963.1Application Date: 2014-06-06
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Publication No.: CN108093152B9Publication Date: 2021-04-13
- Inventor: 桐原和子 , 田岛幸夫
- Applicant: 富士施乐株式会社
- Applicant Address: 日本东京
- Assignee: 富士施乐株式会社
- Current Assignee: 富士胶片商业创新有限公司
- Current Assignee Address: 日本东京
- Agency: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- Agent 李铭; 崔利梅
- Priority: 2013-257482 20131212 JP 2013-257483 20131212 JP
- Main IPC: H04N1/00
- IPC: H04N1/00
Abstract:
本发明提供了处理装置和处理方法。所述处理装置，包括：处理单元，其执行多个预定处理；显示单元；创建单元，其创建第一处理接收部分和第二处理接收部分，第一处理接收部分和第二处理接收部分中的每一个在显示单元上接收对多个预定处理中的任意一个的指令；以及执行部分，其在第一处理接收部分接收到指令的情况下，在再次接收到指令之后执行处理，而在第二处理接收部分接收到指令的情况下，无需再次接收到指令就执行处理。
Public/Granted literature
- CN108093152B 处理装置和处理方法 Public/Granted day:2021-01-26
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