Invention Grant
- Patent Title: 一种硅材料的清洗方法
-
Application No.: CN201711286735.5Application Date: 2017-12-07
-
Publication No.: CN108212831BPublication Date: 2019-10-11
- Inventor: 盛广喜
- Applicant: 广德盛源电器有限公司
- Applicant Address: 安徽省宣城市广德县东亭乡集镇工业区(东亭社区)
- Assignee: 广德盛源电器有限公司
- Current Assignee: 广德盛源电器有限公司
- Current Assignee Address: 安徽省宣城市广德县东亭乡集镇工业区(东亭社区)
- Agency: 合肥鼎途知识产权代理事务所
- Agent 叶丹
- Main IPC: B08B1/00
- IPC: B08B1/00 ; B08B1/02 ; B08B3/02 ; B08B3/08 ; B08B3/12 ; B08B7/04 ; F26B5/08

Abstract:
本发明公开了一种硅材料的清洗方法,所述硅材料清洗装置的主体结构设计为清洗槽,所述清洗槽的顶部放置有清洗槽盖,所述清洗槽内安装有清洗滚筒,所述清洗滚筒内部安装有清洗刷,所述清洗滚筒由驱动电机提供动力,所述驱动电机的右侧安装有调速装置,所述调速装置与清洗槽之间安装有连接轴承,所述清洗槽的底部安装有超声波发生器,清洗方法为:先将硅材料进行超声波醇水冲洗,再由稀碱液进行浸泡,再使用稀酸液进行喷淋,最后在进行高压水洗,接着甩干水后进行烘干,本发明能够有效地清洗硅材料表面的杂质,反应平稳,基本不产生热量,不发生氧化反应,避免因氧化而对硅材料产生污染,提高了硅材料的质量;降低了硅材料的损耗率,节约了成本。
Public/Granted literature
- CN108212831A 一种硅材料的清洗方法 Public/Granted day:2018-06-29
Information query
IPC分类: