Invention Grant
- Patent Title: 用于光刻设备的控制系统和方法
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Application No.: CN201680082269.6Application Date: 2016-12-23
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Publication No.: CN108702229BPublication Date: 2019-10-11
- Inventor: H.T.斯蒂恩斯特拉
- Applicant: ASML荷兰有限公司
- Applicant Address: 荷兰维德霍温
- Assignee: ASML荷兰有限公司
- Current Assignee: ASML荷兰有限公司
- Current Assignee Address: 荷兰维德霍温
- Agency: 北京市金杜律师事务所
- Agent 王茂华
- Priority: 14/979,583 2015.12.28 US
- International Application: PCT/EP2016/082618 2016.12.23
- International Announcement: WO2017/114794 EN 2017.07.06
- Date entered country: 2018-08-21
- Main IPC: H04J3/06
- IPC: H04J3/06 ; G06F13/40 ; G06F1/14 ; H04L7/00 ; G03F7/20 ; H01J37/00

Abstract:
一种用于在第一时基中的第一开始时间值初始化第一模块(120)中的第一操作的方法,该方法包括生成时钟信号(402,116),基于该时钟信号(116)在第一模块(120)中生成第二时基(403),确定第二时基中的第二同步值(405),确定与第二时基中第二同步值对应的第一时基中的第一同步值(406),基于第一时基中的第一同步值和开始时间值确定第二时基中的开始触发值(410),并基于第一模块(120)中第二时基的开始触发值和当前值来初始化第一模块(120)中的第一操作(411)。
Public/Granted literature
- CN108702229A 用于光刻设备的控制系统和方法 Public/Granted day:2018-10-23
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