Invention Grant
- Patent Title: 一种半导体二极管电镀处理系统
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Application No.: CN201810569019.6Application Date: 2018-06-05
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Publication No.: CN108796592BPublication Date: 2019-08-13
- Inventor: 陈涛
- Applicant: 吉林瑞能半导体有限公司
- Applicant Address: 吉林省吉林市高新区深圳街99号
- Assignee: 吉林瑞能半导体有限公司
- Current Assignee: 吉林瑞能半导体有限公司
- Current Assignee Address: 吉林省吉林市高新区深圳街99号
- Main IPC: C25D17/18
- IPC: C25D17/18 ; C25D5/20 ; C25D7/12 ; C25D21/10

Abstract:
本发明属于半导体二极管生产技术领域,具体的说是一种半导体二极管电镀处理系统,包括顶板、电镀槽、支柱、电镀箱、驱动模块和搅拌模块;所述驱动模块包括第一电机、一号凸轮、一号滑动伸缩杆、一号滑块和二号滑块;通过一号凸轮、一号滑块和一号滑动伸缩杆间的相互配合,电镀箱在下降的同时进行摆动,使得电镀液充分的与半导体二极管进行接触;三号滑块将右侧的一号进液口堵住,电镀液从箱体底板左侧的一号进液口进入并冲击四号板,使得四号板上设置的支撑盘晃动;电镀液进入电镀箱后,通过振动架的振动,使得半导体二极管进行振动,加大了电镀液与半导体二极管的接触面积,从而提高了半导体二极管的电镀效率和品质。
Public/Granted literature
- CN108796592A 一种半导体二极管电镀处理系统 Public/Granted day:2018-11-13
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