一种半导体二极管电镀处理系统
Abstract:
本发明属于半导体二极管生产技术领域,具体的说是一种半导体二极管电镀处理系统,包括顶板、电镀槽、支柱、电镀箱、驱动模块和搅拌模块;所述驱动模块包括第一电机、一号凸轮、一号滑动伸缩杆、一号滑块和二号滑块;通过一号凸轮、一号滑块和一号滑动伸缩杆间的相互配合,电镀箱在下降的同时进行摆动,使得电镀液充分的与半导体二极管进行接触;三号滑块将右侧的一号进液口堵住,电镀液从箱体底板左侧的一号进液口进入并冲击四号板,使得四号板上设置的支撑盘晃动;电镀液进入电镀箱后,通过振动架的振动,使得半导体二极管进行振动,加大了电镀液与半导体二极管的接触面积,从而提高了半导体二极管的电镀效率和品质。
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