Invention Publication
- Patent Title: 放射剂量分析系统
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Application No.: CN201811485231.0Application Date: 2018-12-06
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Publication No.: CN109378048APublication Date: 2019-02-22
- Inventor: 朱亚兰 , 李小芬
- Applicant: 余姚德诚科技咨询有限公司
- Applicant Address: 浙江省宁波市余姚市阳明西路188号
- Assignee: 余姚德诚科技咨询有限公司
- Current Assignee: 余姚德诚科技咨询有限公司
- Current Assignee Address: 浙江省宁波市余姚市阳明西路188号
- Main IPC: G16H20/40
- IPC: G16H20/40

Abstract:
本发明涉及一种放射剂量分析系统,包括:X光机主体,包括射线放射设备、闪烁屏、影像增强板、反光镜、镜头组和CMOS感应设备;射线放射设备将放射出的X射线发射到闪烁屏上,影像增强板设置在闪烁屏的后方,反光镜设置在影像增强板的后方,用于将来自影像增强板的X射线投射到镜头组,镜头组设置在反光镜的下方,CMOS感应设备设置在反光镜的下方,用于感应出射线投影图像;超标检测设备,在R颜色参考值大于等于第一R颜色分量阈值时,发出剂量超标信号,以及在R颜色参考值小于第二R颜色分量阈值时,发出剂量不足信号;第一R颜色分量阈值是第二R颜色分量阈值的两倍。通过本发明,为X射线的剂量释放提供有效的反馈机制。
Public/Granted literature
- CN109378048B 放射剂量分析系统 Public/Granted day:2022-09-23
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