真空环境下辐射块温度调控方法及装置
Abstract:
本发明涉及一种真空环境下辐射块温度调控方法、装置、计算机存储介质和背景辐射模拟器,其方法包括:温度传感器测量辐射板的实时温度信号;温控模块采集温度传感器测量的实时温度信号,与温度控制目标范围进行对比,按固定周期循环执行温度判断生成供电控制指令和液氮控制指令;供电控制器接收温控模块的供电控制指令,完成电源供电电压控制,将电源供电电压输出给加热膜;液氮控制器接收温控模块的液氮控制指令,完成液氮供给量控制,将液氮源的液氮输出给热沉;加热膜根据电源供电电压对辐射板进行加热;热沉根据液氮输入量对衬板、加热膜和辐射板进行降温。本发明利用闭环控制通路,实现了真空环境下的宽范围温度调控效果。
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