说明一种用于在真空腔室(101)中处理基板(10)的设备(100)。所述设备包含第一载体运输系统、对准系统(20、120)、第一移位装置(41、141)和共用支撑结构(50、150)；第一载体运输系统经配置以沿着第一运输路径在第一方向(X)中运输第一载体(11)；对准系统(20、120)包含用于将第一载体(11)安装于对准系统的第一安装件(21、121)；第一移位装置(41、141)经配置以将第一载体从第一运输路径在第二方向(Z)中移动至第一安装件，第二方向横过第一方向(X)；共用支撑结构(50、150)支撑或保持至少一部分对准系统(20、120)与至少一部分第一移位装置(41、141)。此外，说明用于处理基板的系统和在真空腔室中运输载体的方法。