用于测量半导体参数的设备、技术和目标设计
Abstract:
本揭露涉及用于测量半导体参数的设备、技术和目标设计。在一个实施例中,揭示了用于确定目标的参数的设备及方法。提供了一种具有成像结构及散射测量结构的目标。利用计量工具的成像通道获得所述成像结构的图像。还利用所述计量工具的散射测量通道从所述散射测量结构获得散射测量信号。基于所述图像及所述散射测量信号两者确定所述目标的至少一个参数,例如叠对误差。
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