Invention Publication
- Patent Title: 压力敏感薄膜、传感器、传感器阵列及各自的制备方法
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Application No.: CN201811502252.9Application Date: 2018-12-10
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Publication No.: CN109668580APublication Date: 2019-04-23
- Inventor: 郭小军 , 陈苏杰 , 彭赛 , 黄钰坤
- Applicant: 上海交通大学
- Applicant Address: 上海市徐汇区华山路1954号
- Assignee: 上海交通大学
- Current Assignee: 上海交通大学
- Current Assignee Address: 上海市徐汇区华山路1954号
- Agency: 上海盈盛知识产权代理事务所
- Agent 孙佳胤; 董琳
- Main IPC: G01D5/14
- IPC: G01D5/14

Abstract:
本发明涉及一种压力敏感薄膜、传感器和传感器阵列及各自的制备方法,上述压力敏感薄膜内至少具有两种不同尺寸的多个闭孔,所述闭孔内具有气体,自所述压力敏感薄膜底部向上,沿垂直所述压力敏感薄膜的厚度方向,所述闭孔的尺寸逐渐增大。上述压力敏感薄膜的传感灵敏度提高。
Public/Granted literature
- CN109668580B 压力敏感薄膜、传感器、传感器阵列及各自的制备方法 Public/Granted day:2021-04-13
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