Invention Grant
- Patent Title: 用于高敏感度重复项缺陷检测的系统及方法
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Application No.: CN201780068950.XApplication Date: 2017-11-08
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Publication No.: CN109964115BPublication Date: 2021-04-13
- Inventor: B·布拉尔 , S·巴塔查里亚 , E·希夫林 , 李胡成 , B·默里 , A·马修 , C·巴哈斯卡尔 , 高理升
- Applicant: 科磊股份有限公司
- Applicant Address: 美国加利福尼亚州
- Assignee: 科磊股份有限公司
- Current Assignee: 科磊股份有限公司
- Current Assignee Address: 美国加利福尼亚州
- Agency: 北京律盟知识产权代理有限责任公司
- Agent 刘丽楠
- Priority: 62/420,409 20161110 US 62/443,810 20170109 US 62/455,948 20170207 US 15/804,980 20171106 US
- International Application: PCT/US2017/060589 2017.11.08
- International Announcement: WO2018/089459 EN 2018.05.17
- Date entered country: 2019-05-08
- Main IPC: G01N21/95
- IPC: G01N21/95 ; G01N21/88

Abstract:
本发明提供用于检测光罩上的缺陷的系统及方法。一种系统包含:(若干)计算机子系统,其包含一或多个图像处理组件,其获取由检验子系统针对晶片产生的图像;主用户接口组件,其将针对所述晶片及所述光罩产生的信息提供到用户且接收来自所述用户的指令;及接口组件,其提供所述一或多个图像处理组件与所述主用户接口之间的接口。不同于当前使用的系统,所述一或多个图像处理组件经配置用于通常将重复项缺陷检测算法应用到由所述一或多个图像处理组件获取的所述图像而执行重复项缺陷检测,且所述重复项缺陷检测算法经配置以使用热阈值来检测所述晶片上的缺陷且识别是重复项缺陷的所述缺陷。
Public/Granted literature
- CN109964115A 高敏感度重复项缺陷检测 Public/Granted day:2019-07-02
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