Invention Publication
- Patent Title: 基于介质阻挡放电等离子体的材料改性装置、系统及方法
- Patent Title (English): Material modification device, system and method based on dielectric barrier discharge plasma
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Application No.: CN201910200894.1Application Date: 2019-03-18
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Publication No.: CN110035594APublication Date: 2019-07-19
- Inventor: 常正实 , 王聪 , 李国强 , 张冠军
- Applicant: 西安交通大学
- Applicant Address: 陕西省西安市咸宁西路28号
- Assignee: 西安交通大学
- Current Assignee: 西安交通大学
- Current Assignee Address: 陕西省西安市咸宁西路28号
- Agency: 北京中济纬天专利代理有限公司
- Agent 覃婧婵
- Main IPC: H05H1/24
- IPC: H05H1/24

Abstract:
本公开揭示了一种基于介质阻挡放电等离子体的材料改性装置,包括:装置主体上部、装置主体下部、铜板、铜制螺杆和纳米铁粉。本公开还揭示了一种基于介质阻挡放电等离子体的材料改性系统。本公开还揭示了一种基于介质阻挡放电等离子体的材料改性方法。本公开能够产生均匀一维放电,减少放电在空间上分布的随机性和分散性,确保大面积材料处理效果的均匀一致性;本公开能够根据薄膜材料的改性需求匹配放电气体,有目的的引入特定基团;本公开设置薄膜材料传动机构,能够利用低温等离子体对材料进行大面积、均匀、连续化处理,可以应用于材料表面改性方面的研究、教学和工业生产推广。
Public/Granted literature
- CN110035594B 基于介质阻挡放电等离子体的材料改性装置、系统及方法 Public/Granted day:2021-04-13
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