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光电流扫描系统
Abstract:
本发明涉及一种光电流扫描系统,包括一激光发生装置、一聚焦装置、一位移调整装置、一偏压供给装置及一测量装置;所述激光发生装置用于发射激光,所述聚焦装置用于将激光聚焦到所述位移调整装置中待测样品表面;所述位移调整装置用于驱动所述待测样品,使激光照射到待测样品表面的不同部位;所述偏压供给装置用于向所述待测样品提供电压;所述测量装置用于测量流过所述待测样品的电流信号。
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