Invention Publication
- Patent Title: 阵列曝光机的卡盘的修复方法、卡盘及阵列曝光机
- Patent Title (English): Repairing method of chuck of array exposure machine, chuck and array exposure machine
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Application No.: CN201910379632.6Application Date: 2019-05-08
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Publication No.: CN110119073APublication Date: 2019-08-13
- Inventor: 王宏强
- Applicant: 深圳市华星光电技术有限公司
- Applicant Address: 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号
- Assignee: 深圳市华星光电技术有限公司
- Current Assignee: 深圳市华星光电技术有限公司
- Current Assignee Address: 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号
- Agency: 深圳翼盛智成知识产权事务所
- Agent 黄威
- Main IPC: G03F7/20
- IPC: G03F7/20 ; B24B7/00

Abstract:
本发明提供了一种阵列曝光机的卡盘的修复方法、卡盘及阵列曝光机。阵列曝光机的卡盘的修复方法包括以下步骤:S1、预先获取所述卡盘的目标区域处的当前的初始平坦度参数;S2、若所述当前平坦度参数不满足第一预设条件,则采用预设材料的笔对所述目标区域进行涂抹预设次数;S3、对涂抹后的所述目标区域进行打磨,直至所述目标区域的阻力小于第一阈值;S4、对经过打磨后的所述目标区域进行清洁;S5、对所述目标区域进行检测以获取所述目标区域的实测平坦度参数;S6、若所述实测平坦度参数满足第一预设条件则修复完成。本发明通过采用对应材料的笔对卡盘的目标区域进行涂布,从而完成对该目标区域的磨损的修复,无需更好新的卡盘,可以降低成本。
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