模拟纳米晶金属累积离位损伤的方法
Abstract:
本发明公开了一种模拟纳米晶金属累积离位损伤的方法,步骤包括基本原子过程MD参数化;基本原子过程OKMC速率列表创建;OKMC调用相应速率,选择、执行事件;表征OKMC粗粒化结构;采样不同剂量下的微结构,并用MD弛豫之;将观察到的原子过程速率化;更新基本原子过程,重新运行OKMC模块。本发明优点在于通过结合原子尺度MD模拟方法和粗粒化OKMC方法,既考虑了基本原子过程,又能实现大尺度模拟,可与实验剂量率相比拟,同时考虑了基本过程累积作用下可能出现的新原子过程;同现有的模拟方法相比,避免了因MD时间尺度有限带来的辐照剂量率异常高的问题,又避免了OKMC在结构弛豫上的不足,兼顾了MD在结构弛豫和OKMC在长时间尺度模拟上的综合优势。
Public/Granted literature
Patent Agency Ranking
0/0