Invention Grant
- Patent Title: 一种变焦跟随曲线的选点方法、装置及存储介质
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Application No.: CN201910260225.3Application Date: 2019-04-02
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Publication No.: CN110121068BPublication Date: 2020-06-23
- Inventor: 虞卫勇 , 陈天钧 , 陈明珠 , 郑佳枫
- Applicant: 浙江大华技术股份有限公司
- Applicant Address: 浙江省杭州市滨江区滨安路1187号
- Assignee: 浙江大华技术股份有限公司
- Current Assignee: 浙江大华技术股份有限公司
- Current Assignee Address: 浙江省杭州市滨江区滨安路1187号
- Agency: 北京同达信恒知识产权代理有限公司
- Agent 黄志华
- Main IPC: H04N17/00
- IPC: H04N17/00 ; H04N5/232

Abstract:
本申请公开了一种变焦跟随曲线的选点方法、装置及存储介质。涉及曲线校正领域,用以解决选点过程中容易产生很多不必要的校正点的问题。该方法中,首先对多台待校正设备的理论曲线进行整体偏移,并根据整体偏移后的理论曲线选择多个第一指定变焦点,以及根据该多个第一指定变焦点进行曲线拟合得到第一曲线及获取第一曲线的容差范围。其次通过第一指定变焦点选择多个关键变焦点,使得多个关键变焦点进行曲线拟合得的第二曲线。若第一曲线与第二曲线中各相同第一指定变焦点的实测点对的距离均不大于容差范围,则确定校正变焦点。这样,可以使选取的校正点更加精简,且适用于多台待校正设备。
Public/Granted literature
- CN110121068A 一种变焦跟随曲线的选点方法、装置及存储介质 Public/Granted day:2019-08-13
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