Invention Grant
- Patent Title: 记录装置
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Application No.: CN201910568938.6Application Date: 2019-06-27
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Publication No.: CN110654114BPublication Date: 2021-04-13
- Inventor: 五十川贵将 , 濑川裕一 , 室町明伸 , 小池良和
- Applicant: 精工爱普生株式会社
- Applicant Address: 日本东京
- Assignee: 精工爱普生株式会社
- Current Assignee: 精工爱普生株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京
- Agency: 北京康信知识产权代理有限责任公司
- Agent 田喜庆
- Priority: 2018-124635 20180629 JP
- Main IPC: B41J2/01
- IPC: B41J2/01 ; B41J29/00

Abstract:
一种记录装置,其特征在于,具备:记录头,对介质进行记录;输送带,具有用于吸附介质的吸附面,并将介质向与所述记录头对置的位置输送;第一带电单元,与所述输送带接触而使所述吸附面摩擦带电;以及第二带电单元,通过对所述输送带施加电压来使所述吸附面带电,切换所述吸附面基于所述第一带电单元的带电与所述吸附面基于所述第二带电单元的带电的控制单元根据与所述吸附面接触的介质的面状态,切换所述吸附面基于所述第一带电单元的带电和所述吸附面基于所述第二带电单元的带电。
Public/Granted literature
- CN110654114A 记录装置 Public/Granted day:2020-01-07
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IPC分类: