Invention Publication
- Patent Title: 磷酸刻蚀溶液
- Patent Title (English): Phosphoric acid etching solution
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Application No.: CN201910917946.7Application Date: 2019-09-26
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Publication No.: CN110684535APublication Date: 2020-01-14
- Inventor: 徐融 , 苏界 , 孙文斌
- Applicant: 长江存储科技有限责任公司
- Applicant Address: 湖北省武汉市洪山区东湖开发区关东科技工业园华光大道18号7018室
- Assignee: 长江存储科技有限责任公司
- Current Assignee: 长江存储科技有限责任公司
- Current Assignee Address: 湖北省武汉市洪山区东湖开发区关东科技工业园华光大道18号7018室
- Agency: 上海盈盛知识产权代理事务所
- Agent 董琳; 高翠花
- Main IPC: C09K13/06
- IPC: C09K13/06

Abstract:
本发明提供一种磷酸刻蚀溶液,其包括磷酸刻蚀剂及硅刻蚀抑制剂,所述硅刻蚀抑制剂包括还原性添加剂。所述磷酸刻蚀溶液能够避免外延硅层被刻蚀,进而提高存储器的性能。
Public/Granted literature
- CN110684535B 磷酸刻蚀溶液 Public/Granted day:2021-04-13
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