Invention Publication
- Patent Title: 一种全介质偏振无关全内反射光栅及其制作方法
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Application No.: CN201911087067.2Application Date: 2019-11-08
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Publication No.: CN110989061APublication Date: 2020-04-10
- Inventor: 张新彬 , 陈怀熹 , 李广伟 , 冯新凯 , 古克义 , 梁万国 , 黄玉宝
- Applicant: 中国科学院福建物质结构研究所
- Applicant Address: 福建省福州市鼓楼区杨桥西路155号
- Assignee: 中国科学院福建物质结构研究所
- Current Assignee: 中国科学院福建物质结构研究所
- Current Assignee Address: 福建省福州市鼓楼区杨桥西路155号
- Agency: 北京元周律知识产权代理有限公司
- Agent 校丽丽
- Main IPC: G02B5/18
- IPC: G02B5/18

Abstract:
本发明公开了一种全介质偏振无关全内反射光栅及其制作方法,属于反射光栅技术领域,能够解决现有反射光栅刻蚀深度较大,生产成品率较低的问题。所述反射光栅包括基底、平板波导层和光栅层。基底引导入射光进入平板波导层,并使出射光射出;平板波导层设置在基底上,调节偏振方向平行于光栅槽型的入射光的衍射效率;光栅层设置在平板波导层上,调节偏振方向垂直于光栅槽型的入射光的衍射效率。本发明可以使TE光和TM光在-1级利特罗角入射条件下,理论上同时具有99%以上的衍射效率,在实际应用中同时具有95%以上的衍射效率。
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