一种全介质偏振无关全内反射光栅及其制作方法
Abstract:
本发明公开了一种全介质偏振无关全内反射光栅及其制作方法,属于反射光栅技术领域,能够解决现有反射光栅刻蚀深度较大,生产成品率较低的问题。所述反射光栅包括基底、平板波导层和光栅层。基底引导入射光进入平板波导层,并使出射光射出;平板波导层设置在基底上,调节偏振方向平行于光栅槽型的入射光的衍射效率;光栅层设置在平板波导层上,调节偏振方向垂直于光栅槽型的入射光的衍射效率。本发明可以使TE光和TM光在-1级利特罗角入射条件下,理论上同时具有99%以上的衍射效率,在实际应用中同时具有95%以上的衍射效率。
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