Invention Publication
- Patent Title: 光源装置、光路结构设计方法及投影系统
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Application No.: CN202010198610.2Application Date: 2020-03-19
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Publication No.: CN111258163APublication Date: 2020-06-09
- Inventor: 葛明星 , 陈龙
- Applicant: 无锡视美乐激光显示科技有限公司
- Applicant Address: 江苏省无锡市宜兴经济开发区杏里路10号宜兴光电产业园3幢101室
- Assignee: 无锡视美乐激光显示科技有限公司
- Current Assignee: 无锡视美乐激光显示科技有限公司
- Current Assignee Address: 江苏省无锡市宜兴经济开发区杏里路10号宜兴光电产业园3幢101室
- Agency: 北京超凡宏宇专利代理事务所
- Agent 董艳芳
- Main IPC: G03B21/20
- IPC: G03B21/20

Abstract:
本发明提供了一种光源装置、光路结构设计方法及投影系统,涉及光学技术领域,该光源装置在沿光的传播方向上包括:阵列光源、第一缩束结构和波长转换装置;第一缩束结构用于对阵列光源输出的激发光束进行激发光束垂直投影的长轴方向上的缩束;缩束前,激发光束垂直投影的长轴长度是激发光束垂直投影的短轴长度的第一预设倍数;缩束后,经第一缩束结构缩束得到的缩束后光束垂直投影的长轴长度是缩束后光束垂直投影的短轴长度的第二预设倍数,第二预设倍数小于第一预设倍数。这样通过第一缩束结构实现了激发光束形状的改变。
Public/Granted literature
- CN111258163B 光源装置、光路结构设计方法及投影系统 Public/Granted day:2021-04-13
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