Invention Publication
- Patent Title: 光学系统、光学设备以及光学系统的制造方法
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Application No.: CN201780097685.8Application Date: 2017-12-15
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Publication No.: CN111480103APublication Date: 2020-07-31
- Inventor: 山下雅史 , 伊藤智希 , 籔本洋 , 山本浩史 , 三轮哲史 , 坪野谷启介 , 槙田步 , 上原健
- Applicant: 株式会社尼康
- Applicant Address: 日本东京
- Assignee: 株式会社尼康
- Current Assignee: 株式会社尼康
- Current Assignee Address: 日本东京
- Agency: 中原信达知识产权代理有限责任公司
- Agent 季莹; 方应星
- International Application: PCT/JP2017/045187 2017.12.15
- International Announcement: WO2019/116567 JA 2019.06.20
- Date entered country: 2020-06-15
- Main IPC: G02B13/00
- IPC: G02B13/00 ; G02B13/02 ; G02B13/04 ; G02B15/20
Abstract:
光学系统(LS)具备满足以下条件式的透镜(L22、L33)：ndLZ+(0.01425×νdLZ)
Public/Granted literature
- CN111480103B 光学系统、光学设备以及光学系统的制造方法 Public/Granted day:2022-09-09
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