Invention Publication
- Patent Title: 精密测量阿贝误差控制系统
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Application No.: CN202010965117.9Application Date: 2020-09-15
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Publication No.: CN112066961APublication Date: 2020-12-11
- Inventor: 李凤英
- Applicant: 成都明杰科技有限公司
- Applicant Address: 四川省成都市双流区东升街道龙桥路6号129栋1单元9层902号
- Assignee: 成都明杰科技有限公司
- Current Assignee: 成都明杰科技有限公司
- Current Assignee Address: 四川省成都市双流区东升街道龙桥路6号129栋1单元9层902号
- Agency: 成都四合天行知识产权代理有限公司
- Agent 冯龙; 王记明
- Main IPC: G01C15/00
- IPC: G01C15/00 ; G01C15/02

Abstract:
本发明公开了一种精密测量阿贝误差控制系统,包括十字定位器和激光发射器,十字定位器上设有十字定位点,十字定位点和激光发射器的发射口位置对应,在激光发射器的下方固定有固定座,固定座背离激光发射器发射口的一侧设有微调板,在微调板的上表面设有旋钮,固定座固定在微调板上,并且能够通过旋钮调节固定座的横向位置,固定座的下方设有支撑座,支撑座与固定座之间留有间隙,在支撑座与微调板之间设有连接杆,连接杆的一端与支撑座固定,其另一端与微调板固定,在支撑座的下方固定有能够调节固定座水平度的水平调节座;通过对影响测量的阿贝误差的监测和调控,采用辅助设备将轴距影响控制在误差的合理范围内,提高精密测量时的精度。
Public/Granted literature
- CN112066961B 精密测量阿贝误差控制系统 Public/Granted day:2021-04-13
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