Invention Grant
- Patent Title: 水平液相外延石墨舟、生长系统、外延方法和生长方法
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Application No.: CN202010994740.7Application Date: 2020-09-21
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Publication No.: CN112080796BPublication Date: 2021-04-13
- Inventor: 不公告发明人
- Applicant: 北京智创芯源科技有限公司
- Applicant Address: 北京市北京经济技术开发区经海三路106号1幢一层
- Assignee: 北京智创芯源科技有限公司
- Current Assignee: 北京智创芯源科技有限公司
- Current Assignee Address: 北京市北京经济技术开发区经海三路106号1幢一层
- Agency: 北京集佳知识产权代理有限公司
- Agent 骆英静
- Main IPC: C30B19/06
- IPC: C30B19/06 ; C30B19/00

Abstract:
本发明公开了一种水平液相外延石墨舟,包括至少一个刮除装置,拉动滑条至第一预设位置时,刮除装置能够刮除滑条上滞留的母液;以及至少一个吸收装置,拉动滑条至第二预设位置时,吸收装置能够吸收滑条上滞留的母液;并且拉动滑条时,滑条先滑动至衬底槽与母液滞留槽对中的位置,再滑动至第一预设位置,最后滑动至第二预设位置。碲镉汞母液在衬底上生长出碲镉汞薄膜;拉动滑条至第一预设位置,刮除装置将滞留在滑条上的碲镉汞母液刮除;再拉动滑条至第二预设位置,吸收装置将碲镉汞母液吸收;在刮除装置和吸收装置的双重作用下,减少残留的碲镉汞母液,提高碲镉汞薄膜的质量。本发明还公开了一种水平液相外延生长系统、外延方法和生长方法。
Public/Granted literature
- CN112080796A 水平液相外延石墨舟、生长系统、外延方法和生长方法 Public/Granted day:2020-12-15
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