Invention Publication
- Patent Title: 一种双路单间隙等离子体喷射装置及其应用
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Application No.: CN202010937187.3Application Date: 2020-09-08
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Publication No.: CN112118664APublication Date: 2020-12-22
- Inventor: 杨兰均 , 魏鹏 , 曹博 , 韩佳一 , 路志建
- Applicant: 西安交通大学
- Applicant Address: 陕西省西安市咸宁西路28号
- Assignee: 西安交通大学
- Current Assignee: 西安交通大学
- Current Assignee Address: 陕西省西安市咸宁西路28号
- Agency: 西安通大专利代理有限责任公司
- Agent 高博
- Main IPC: H05H1/36
- IPC: H05H1/36 ; H05H1/44

Abstract:
本发明公开了一种双路单间隙等离子体喷射装置及其应用,利用脉冲放电同步触发等离子体喷射装置,通过具有初始储能的大电容为等离子体喷射器中毛细管放电消融绝缘产气材料的过程供能,持续产生大量等离子体,基于毛细管内外的巨大压差,形成高温、高压、高密度的等离子体射流。本装置采用单间隙毛细管放电喷射,结构简单,喷射距离长,触发性能稳定,能有效满足长间距、低工作系数下的间隙触发需求。增加主放电电容器的电容量可以增加毛细管中放电电流的脉冲宽度和电流持续时间,从而延长等离子体喷射的持续时间,这对于间隙的可靠触发导通具有重要的作用。
Public/Granted literature
- CN112118664B 一种双路单间隙等离子体喷射装置及其应用 Public/Granted day:2021-11-19
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