Invention Grant
- Patent Title: 一种印染废水深度处理装置及方法
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Application No.: CN202011129462.5Application Date: 2020-10-21
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Publication No.: CN112174292BPublication Date: 2021-04-13
- Inventor: 宋永莲 , 伍昌年 , 郑侠 , 杨丹丹 , 陈嘉雄 , 陶森森 , 凌琪
- Applicant: 安徽中环环保科技股份有限公司 , 安徽建筑大学
- Applicant Address: 安徽省合肥市阜阳北路948号中正国际广场1幢办1608室;
- Assignee: 安徽中环环保科技股份有限公司,安徽建筑大学
- Current Assignee: 安徽中环环保科技股份有限公司,安徽建筑大学
- Current Assignee Address: 安徽省合肥市阜阳北路948号中正国际广场1幢办1608室;
- Agency: 合肥中谷知识产权代理事务所
- Agent 洪玲
- Main IPC: B01J23/755
- IPC: B01J23/755 ; C02F1/70 ; B01D53/18 ; C02F103/30 ; C02F101/30

Abstract:
本发明公开了一种印染废水深度处理装置及方法,其采用一种强化传质效能的超重力场磁性焦粉催化臭氧氧化旋转填料反应器一体化装置,用于气液相接触的旋转传质与反应,废水经中空转轴出水后,在离心叶轮上的离心力作用下,与反应器壳体内壁碰撞后均匀分布在反应器中,臭氧由微纳米曝气头进入反应器,产生微纳米气泡在废水中存在时间长,大大提高废水中臭氧浓度,基于装置内气液湍流、离心力及磁性焦粉的氧化、吸附作用,增大了臭氧、废水及磁性焦粉间的传质,传质系数提高。本发明可降低反应器运行的动能消耗,还可解决传统反应器内传质不均匀问题,具有高效、节能低成本运行特点,且易于操作、可控性强,在印染废水深度处理中具有工程应用前景。
Public/Granted literature
- CN112174292A 一种印染废水深度处理装置及方法 Public/Granted day:2021-01-05
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