Invention Grant
- Patent Title: 膜结构、换能器装置和制造膜结构的方法
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Application No.: CN202080071552.5Application Date: 2020-09-01
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Publication No.: CN114946197BPublication Date: 2025-04-25
- Inventor: 皮特·赫布 , 米歇尔·穆勒 , 戈兰·斯托扬诺维奇
- Applicant: AMS国际有限公司
- Applicant Address: 瑞士尤纳
- Assignee: AMS国际有限公司
- Current Assignee: AMS国际有限公司
- Current Assignee Address: 瑞士尤纳
- Agency: 北京柏杉松知识产权代理事务所
- Agent 侯丽英; 刘继富
- Priority: 19197358.5 20190913 EP
- International Application: PCT/EP2020/074365 2020.09.01
- International Announcement: WO2021/047962 EN 2021.03.18
- Date entered country: 2022-04-12
- Main IPC: H04R7/12
- IPC: H04R7/12 ; H04R31/00

Abstract:
一种膜结构(1)包括具有主表面(4)和后部表面(24)的基底(2)。多个支柱(10)被设置在基底(2)的主表面(4)上并且具有背离基底(2)的主表面(4)的支撑区域(12)。薄膜结构(6)被设置在基底(2)的主表面(4)和支柱(10)上方,其中薄膜结构(6)包括多个升高部(15),升高部与基底(2)之间的间隔大于薄膜结构的至少一个下部(16)与基底(2)之间的间隔。升高部(15)均包括至少一个突出部分(13),突出部分(13)为中空的并且具有底部部分(14)和侧壁(22),并且突出部分(13)朝向基底(2)延伸。每个突出部分(13)的底部部分(14)分别机械连接到支柱(10)之一的支撑区域(12)。后空间(5)由基底(2)的主表面(4)与薄膜结构(6)之间的空间形成。
Public/Granted literature
- CN114946197A 膜结构、换能器装置和制造膜结构的方法 Public/Granted day:2022-08-26
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