Invention Publication
- Patent Title: 一种真空目标靶溅射沉积质量的三维检测设备
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Application No.: CN202211082822.XApplication Date: 2022-09-06
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Publication No.: CN115436214APublication Date: 2022-12-06
- Inventor: 何梓豪 , 苗龙 , 王一凡 , 张琳 , 梁福文
- Applicant: 北京理工大学
- Applicant Address: 北京市海淀区中关村南大街5号
- Assignee: 北京理工大学
- Current Assignee: 北京理工大学
- Current Assignee Address: 北京市海淀区中关村南大街5号
- Agency: 北京盛询知识产权代理有限公司
- Agent 郭成文
- Main IPC: G01N5/00
- IPC: G01N5/00

Abstract:
本发明公开一种真空目标靶溅射沉积质量的三维检测设备,包括:检测装置,包括支座组件、石英晶体微量天平组件;支座组件上安装有第一驱动机构,第一驱动机构用于驱动石英晶体微量天平组件转动;石英晶体微量天平组件转动连接在支座组件上;靶材调节装置,包括转盘机构、倾覆机构、靶材安装板;倾覆机构安装在转盘机构上,靶材安装板转动连接在倾覆机构上,转盘机构用于驱动靶材安装板水平转动,倾覆机构用于调整靶材安装板的倾斜角度。本发明可实现离子不同轰击入射角的三维溅射区域检测,加工简单、运行可靠、数据采集稳定,通过三维空间的溅射量的采集,可描绘溅射沉积现象的三维整体特征。
Public/Granted literature
- CN115436214B 一种真空目标靶溅射沉积质量的三维检测设备 Public/Granted day:2025-04-25
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