Invention Grant
- Patent Title: 一种缺陷检测系统及缺陷检测方法
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Application No.: CN202211165738.4Application Date: 2022-09-23
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Publication No.: CN115508364BPublication Date: 2025-04-25
- Inventor: 田依杉 , 兰艳平
- Applicant: 上海御微半导体技术有限公司
- Applicant Address: 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区芳春路400号1幢3层
- Assignee: 上海御微半导体技术有限公司
- Current Assignee: 上海御微半导体技术有限公司
- Current Assignee Address: 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区芳春路400号1幢3层
- Agency: 北京品源专利代理有限公司
- Agent 初春
- Main IPC: G01N21/88
- IPC: G01N21/88 ; G01N21/01

Abstract:
本发明公开了一种缺陷检测系统及缺陷检测方法,包括光线输出模块、光线调节模块、探测模块和处理控制模块;光线输出模块用于输出探测光束;光线调节模块位于探测光束的传输路径上,用于调节探测光束入射至待探测物,待探测物反射探测光束形成成像光束,成像光束携带探测物的缺陷信息;探测模块位于成像光束的传播路径上,形成探测图像;处理控制模块与探测模块连接,用于根据探测图像确定待探测物的缺陷信息;处理控制模块还与光线调节模块连接,用于根据探测需求选择照明模式,照明模式包括明场照明模式、暗场照明模式以及明场暗场混合照明模式。处理控制模块通过对光线调节模块的调节,实现探测光束完成不同的照明模式,满足更多样化的需求。
Public/Granted literature
- CN115508364A 一种缺陷检测系统及缺陷检测方法 Public/Granted day:2022-12-23
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