本发明公开了一种直写式曝光设备及直写式曝光设备的控制方法，其中，底座上设置有沿长度方向延伸且沿宽度方向排布的第一导轨和第二导轨，沿第一导轨方向依次定义第一上下板工位、第一对准工位、第一曝光工位、第二对准工位和第二上下板工位，沿第二导轨方向依次定义第三上下板工位、第三对准工位、第二曝光工位、第四对准工位和第四上下板工位；第一工件台和第二工件台均设置在第一导轨上，第三工件台和第四工件台均设置在第二导轨上，四个工件台利用驱动装置往复移动以在各自对应的工位之间切换，利用输送翻转系统对基板进行翻转以获得基板的待曝光面。该直写式曝光设备集成四个工件台，实现了在同一个曝光流程中完成基板的正面和反面曝光。