本发明公开了一种无晶点低光泽消光涂布基膜，依次由上表层、芯层和下表层构成，其中上表层为消光层，下表层为抗粘层；所述上表层由下述质量份的原料制成：改性无机消光粉1～3份、抗氧剂0.1～0.3份、聚丙烯52.2～53.5份、高密度聚乙烯44.5～45.4份。本发明还公开了上述无晶点低光泽消光涂布基膜的制备方法。本发明的消光涂布基膜具有低光泽、高雾度的特点，消光效果优良，而且机械性能好，薄膜表面无大颗粒晶点杂质，具有优良的外观品质。