Invention Grant
- Patent Title: Niobium-Nitride film forming compositions and vapor deposition of Niobium-Nitride films
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Application No.: US14954351Application Date: 2015-11-30
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Publication No.: US10023462B2Publication Date: 2018-07-17
- Inventor: Clément Lansalot-Matras , Julien Lieffrig , Jooho Lee , Wontae Noh
- Applicant: L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude
- Applicant Address: FR Paris
- Assignee: L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude
- Current Assignee: L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude
- Current Assignee Address: FR Paris
- Agent Patricia E. McQueeney
- Main IPC: C23C16/34
- IPC: C23C16/34 ; C23C16/455 ; C01B21/06
Abstract:
Disclosed are Niobium Nitride film forming compositions, methods of synthesizing the same, and methods of forming Niobium Nitride films on one or more substrates via vapor deposition processes using the Niobium Nitride film forming precursors.
Public/Granted literature
- US20170152144A1 NIOBIUM-NITRIDE FILM FORMING COMPOSITIONS AND VAPOR DEPOSITION OF NIOBIUM-NITRIDE FILMS Public/Granted day:2017-06-01
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IPC分类:
